Merknaam: | XHS |
Modelnummer: | Aangepast |
MOQ: | 10 |
Prijs: | 50-100USD |
Betalingsvoorwaarden: | T/t |
Toeleveringsvermogen: | 10000-100000pcs / week |
Photochemical Machining (PCM) is een stressvrij proces gebaseerd op fotolithografie en chemisch etsen. In tegenstelling tot traditioneel mechanisch snijden, stansen of laserbewerking genereert PCM geen thermische of mechanische spanning, waardoor zeer nauwkeurige contourvorming mogelijk is met behoud van de oorspronkelijke mechanische eigenschappen van het metaal. Deze technologie elimineert spanningsconcentratie en vervorming tijdens het gehele verwerkingsproces, waardoor deze bijzonder geschikt is voor de precisieproductie van dunne metalen platen (diktes variërend van 0,01 mm tot 1,0 mm) en complexe microgestructureerde onderdelen, waardoor een hoge productvlakheid en uitstekende maatvastheid worden gegarandeerd.
Item | Parameterbeschrijving |
---|---|
Verwerkingsmethode | Fotochemische bewerking |
Toepasselijke materialen | Roestvrij staal, koper, nikkel, titanium, aluminium en andere metalen |
Materiaaldiktebereik | 0,02 mm tot 3,0 mm |
Minimale lijnbreedte | 0,01 mm |
Minimaal diafragma | 0,02 mm |
Verwerkingsnauwkeurigheid | ±5μm |
Fotolithografie Resolutie | 10μm |
Verwerkingsgebied | Maximaal 600 mm × 1800 mm |
Oppervlakteruwheid | Ra ≤ 0,8 μm |
Voorbeeld ommekeer | 3-5 werkdagen |
Fotochemische bewerkingstechnologie wordt veel gebruikt bij de vervaardiging van uiterst nauwkeurige elektronische componenten en de precisiebewerking van structurele onderdelen in de lucht- en ruimtevaart. In de elektronica-industrie wordt het gebruikt voor de productie van filtergaas, koellichamen, elektroden, afschermingsafdekkingen en metaallagen voor flexibele circuits. In de lucht- en ruimtevaartindustrie maakt PCM de uiterst nauwkeurige vervaardiging mogelijk van lichtgewicht structurele onderdelen, mondstukopeningplaten, microfluïdische kanalen en platen van zeer sterke legeringen. De hoge herhaalbaarheid en consistentie zorgen ervoor dat elk onderdeel voldoet aan strenge functionele en betrouwbaarheidsnormen.
Dit proces maakt gebruik van fotoresist met hoge resolutie en dubbelzijdige belichtingstechnologie om een patroonresolutie van 10 micron te bereiken. Geavanceerde uitlijningssystemen en een omgeving met constante temperatuur en vochtigheid zorgen voor een maatnauwkeurigheid van ±5 μm en randcontrole. De combinatie van fotolithografiemaskerprecisie en chemische etsuniformiteit maakt een perfecte reproductie van complexe geometrieën, fijne openingen en microporiënarrays mogelijk, waardoor de dimensionale consistentie van het product en de helderheid van de contouren worden gegarandeerd.
Wij bieden professionele conversiediensten voor 3D-naar-2D-etsontwerpen. We kunnen uw 3D-model of technische tekening nauwkeurig omzetten in een 2D-etslay-out, zodat de fabricageafmetingen perfect aansluiten bij de ontwerpbedoeling. Klanten kunnen materialen en diktes selecteren op basis van hun specifieke toepassing, waardoor snelle prototyping en massaproductie mogelijk zijn. Alle producten kunnen worden aangepast aan de behoeften van de klant en bieden uitgebreide oplossingen voor precisiecomponenten, elektronische functionele onderdelen en gespecialiseerde structurele onderdelen.